我國電子的快速發展，在電子工業中常用于清洗的是超純水，所以工業超純水設備是非常重要的。電子級超純水國家標準(GB/T11446.1-1997)。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  

　　電子行業超純水發展的歷史進程：    
　　第一階段：預處理過濾器——>陽床——>陰床——>混合床    
　　第二階段：預處理過濾器——>反滲透——>混合床    
　　目前階段：預處理過濾器——>反滲透——>EDI(無需酸堿)   

　　1、反滲透設備+離子交換設備：
　　原水→原水箱→原水增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑投加設備→精密過濾器→高壓泵→反滲透主機(單級或者雙級)→CQ2脫氣塔→中間水箱→中間水泵→離子交換床→終端過濾器→超純水

　　2、反滲透設備+EDI裝置：
　　原水→原水箱→原水增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑投加設備→精密過濾器→高壓泵→反滲透主機(單級或者雙級)→CQ2脫氣塔→中間水箱→中間水泵→EDI超純水設備→超純水

　　電子行業超純水的3種工藝：    
　　1、采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點    
　　2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點     
　　3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點.

    
　　電子行業超純水設備特點     
　　電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。