工業純水設備的工藝與作用

 工業純水設備是用于工業生產用水的純水制取裝置。工業純水設備可以用于：飲用水、瓶裝水、食品工業用水、半導體工業、精細化工、光學工業用水、電鍍用水、醫藥用水、透析醫療用水、電解器生產用水、電容器生產用水、打印機墨水用去離子水等代替各類蒸餾水及超純水供水等。

 工業純水設備的工藝：水在電子工業尤其是電子元器件生產中的重要作用日益突出，純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品合格率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途不同，因此對水質的要求也不同。

預處理系統-反滲透系統-中間水箱-混合床-純水箱-用水對象 (≥15MΩ.CM)

電鍍純水設備：預處理-一級反滲透-中間水箱-加藥機(PH調節-二級反滲透-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精密過濾器-EDI裝置-超純水箱-用水對象(≥15MΩ.CM)

化工純水設備：原水泵-砂濾器-碳濾器-陽離子交換器-陰離子交換器(常見老工藝)

醫用純化水設備：預處理-一級反滲透)-中間水箱-加藥機(PH調節-二級反滲透-無菌水箱(加臭氧)-純水泵-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(全不銹鋼制作)

在電解電容器生產中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產中，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。與傳統的水處理技術相比，膜技術具有工藝簡單、操作方便、易于自動控制、能耗小、無污染、去除雜質效率高、運行成本低等優點，特別是幾種膜技術的配合使用，再輔之以其他水處理工藝，如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等，為去除水中的各種雜質，滿足日益發展的電子工業對高純水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有應用了多種膜技術，才能生產出合格、穩定的高純水，才能生產出大規模、超大規模、甚大規模集成電路(LSI、VLSI、ULSI)，從而使計算機、雷達、通訊、自動控制等現代電子工業的發展和應用得以實現。值得一提的是：當原水的含鹽量大于400mg/L時，純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后，比早先單用離子交換可節約酸、堿約90%左右，使離子交換柱的周期產水量提高10倍左右，事實證明，可以降低純水制造的運行費用和制水成本，可以減少工人的勞動強度，可以減少對環境的污染，并可使純水水質得到提高并長期穩定。據統計，在我國電子工業引進的純水制造系統中，有RO的約占系統總數的90%，有UF的約占20%，有MF的幾乎為100%，而ED在我國國產的純水系統特別是早期投產的純水系統，以及為數眾多的對純水水質要求不高的一般電子元器件(如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等)制造廠的純水系統中占有相當的比例。

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